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采用高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻技术的量子点量子比特器件

imec 宣布全球首创,成功利用高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻技术制造出量子点量子比特器件。这一突破性成果展示了先进光刻技术在量子计算领域的应用潜力,为未来大规模量子比特的集成与制造开辟了新路径。

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